电镀厂浅谈离子镀膜的均匀性要求

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电镀厂浅谈离子镀膜的均匀性要求

PVD真空涂层，离子涂层的均匀性和性能主要包括成分均匀、结构均匀、膜厚均匀，最终保证了膜的均匀性能。电镀厂利用电解池原理在机械制品上沉积出附着良好的、但性能和基体材料不同的金属覆层的技术。电镀层比热浸层均匀，一般都较薄，从几个微米到几十微米不等。通过电镀，可以在机械制品上获得装饰保护性和各种功能性的表面层，还可以修复磨损和加工失误的工件。电镀利用电解原理在某些金属表面上镀上一薄层其它金属或合金的过程，是利用电解作用使金属或其它材料制件的表面附着一层金属膜的工艺从而起到防止金属氧化（如锈蚀），提高耐磨性、导电性、反光性、抗腐蚀性（硫酸铜等）及增进美观等作用。不少硬币的外层亦为电镀。 材料的性能取决于其诚意和结构。 膜层必须获得所设计的膜系统的均匀组成和结构。 膜是二维材料，膜的厚度是重要的材料技术指标.. 例如，薄膜的干涉颜色、耐蚀性和耐磨性与薄膜厚度、薄膜厚度均匀性密切相关，以保证薄膜相关性能均匀。

从涂布材料，或从蒸发源和溅射靶和反应气体来源材料的离子镀膜层组合物。这些物种和沉积物的比例，对稳定沉积过程的供给。

离子镀膜膜层的组织管理结构设计除了决定于沉积物料的成分外，还取决于沉积粒子的能量、粒子入射角度和基体表面温度等，在沉积形成过程中可以要求学生保持高度一致。

涂层的厚度取决于沉积物的总量，当然，同样的密度是前提。